产品信息
您所在的位置:首页 > 详细信息

苏州半导体硅片回收,服务

2020-07-13 05:36:01 2403次浏览

价 格:面议

半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等,严重影响少数载流子寿命和表面电导;碱金属如钠等,引起严重漏电;颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等,会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。

上海星辉光伏科技有限公司版权所有ID:11307993) 技术支持:武汉百业网科技有限公司   百业网客服:孙翠翠

6

回到顶部